真空蒸鍍金屬薄膜是在真空條件下，將金屬蒸鍍在薄膜基材的表面而形成復合薄膜的一種新工藝。被鍍金屬材料可以是金、銀、銅、鋅、鉻、鋁等，其中用的最多的是鋁。在塑料薄膜或紙張表面（單面或雙面）鍍上一層極薄的金屬鋁即成為鍍鋁薄膜，它廣泛地用來代替鋁箔復合材料如鋁箔／塑料、鋁箔／紙等使用。鍍鋁薄膜與鋁箔復合材料相比具有以下特點：

 

    （1）大大減少了用鋁量，節(jié)省了能源和材料，降低了成本，復合用鋁箔厚度多為7～gpm，而鍍鋁薄膜的鋁層厚度約為0．05n左右，其耗鋁量約為鋁箔的1／140～1／180，且生產速度可高達450m／min。

 

    （2）具有優(yōu)良的耐折性和良好的韌性，很少出現針孔和裂口，無揉曲龜裂現象，因此對氣體、水蒸汽、氣味、光線等的阻隔性提高。

 

    （3）具有極佳的金屬光澤，光反射率可達97％；且可以通過涂料處理形成彩色膜，其裝潢效果是鋁箔所不及的。

 

    （4）可采用屏蔽式進行部分鍍鋁，以獲得任意圖案或透明窗口，能看到內裝物。

 

    （5）鍍鋁層導電性能好，能消除靜電效應；其封口性能好，尤其包裝粉末狀產品時，不會污染封口部分，保證了包裝的密封性能。

 

    （6）對印刷、復合等后加工具有良好的適應性。

 

    由于以上特點，使鍍鋁薄膜成為一種性能優(yōu)良、經濟美觀的新型復合薄膜，在許多方面已取代了鋁箔復合材料。主要用于風味食品、農產品的真空包裝，以及藥品、化妝品、香煙的包裝。另外，鍍鋁薄膜也大量用作印刷中的燙金材料和商標標簽材料等。

 

 

    鍍鋁薄膜的基材主要是塑料薄膜和紙張。真空蒸鍍工藝對被鍍基材有以下幾點要求：

 

    （1）耐熱性好，基材必須能耐受蒸發(fā)源的輻射熱和蒸發(fā)物的冷凝潛熱。

 

    （2）從薄膜基材上產生的揮發(fā)性物質要少；對吸濕性大的基材，在鍍膜前理。

 

    （3）基材應具有一定的強度和表面平滑度。

 

    （4）對蒸鍍層的粘接性良好；對于PP、PE等非極性材料，蒸鍍前應進行表面處理、以提高與鍍層的粘接性。

 

    常用的薄膜基材有：BOPET、BONY、BOPP、PE、PVC等塑料薄膜和紙張類。塑料薄膜基材中BOPET、BONY、BOPP三種基材形成的鍍鋁薄膜，具有極好的光澤和粘結力，是性能優(yōu)良的鍍鋁薄膜，大量用作包裝材料和印刷中的燙金材料。鍍鋁PE薄膜的光澤度較差，但成本較低，使用也較廣。以紙基材形成的鍍鋁紙，其成本比鍍鋁塑料薄膜低；比鋁箔/紙的復合材料更薄而價廉；其加工性能好，印刷中不易產生卷曲，不留下折痕等。因此大量取代鋁箔/紙復合材料，用作香煙、食品等內包裝材料以及包裝商標材料等。

 

 

    將被鍍薄膜基材（筒狀〕裝在真空蒸鍍機中，用真空泵抽真空，使鍍膜中的真空度達到1.3×10－2～1.3×10-3Pa，加熱坩鍋使高純度的鋁絲在1200℃～1400℃的溫度下溶化并蒸發(fā)成氣態(tài)鋁。氣態(tài)鋁微粒在移動的薄膜基材表面沉積、經冷卻還原即形成一層連續(xù)而光亮的金屬鋁層。通過控制金屬鋁的蒸發(fā)速度、薄膜基材的移動速度以及鍍膜室的真空度等來控制鍍鋁層的厚度，一般鍍鋁層厚度在25～500nm，鍍鋁薄膜的寬度為800mm～2000mm。

 

    蒸鍍方法：在基材表面蒸鍍鋁的方法有直接蒸鍍法和轉移法兩種。

 

    （1）直接蒸鍍法。是被鎮(zhèn)基材直接通過真空鍍膜機，將金屬鋁蒸鍍在基材表面而形成鍍鋁薄膜。直接蒸 鍍法對基材的要求較高，尤其是要形成表面光亮的金屬膜，必須要求基材具有較好的表面平滑度。如果紙張的表面較粗糙，要采用直接蒸鍍法，在鍍鋁前需先進行表面涂布。另外，在蒸鍍過程中基材的揮發(fā)物要少。因此直接蒸鍍法對基材有較大的局限性，它主要適合于蒸鍍塑料薄膜，也可用于紙張的蒸鍍，但紙張的質量要求高，并對紙的定量有一定的限度。

 

    (2)轉移法。是借助載體膜(真空鍍鋁膜)將金屬鋁層轉移到基材的表面而形成鍍鋁薄膜。轉移法是在直接蒸鍍法的基礎上發(fā)展起來的新工藝，它克服了直接蒸鍍法對基材要求的局限性，尤其適合于在各種紙及紙板上進行鍍鋁，也可用于塑料薄膜的鍍鋁。目前國外已將轉移法應用到布、纖維、皮革等基材的鍍鋁產品上。我國主要采用轉移法生產鍍鋁紙。